磁控溅射功率对ITO膜性能和红外光谱的影响

磁控溅射功率对ITO膜性能和红外光谱的影响

刘静，赵芳红，左岩

PDF(1356 KB)

武汉理工大学学报 ›› 2010, Vol. 32 ›› Issue (22) : 177-181.

材料科学与工程

磁控溅射功率对ITO膜性能和红外光谱的影响

{{article.zuoZhe_CN}}

作者信息 +

History +

本文亮点

{{article.keyPoints_cn}}

HeighLight

{{article.keyPoints_en}}

摘要

{{article.zhaiyao_cn}}

Abstract

{{article.zhaiyao_en}}

关键词

Key words

引用本文

导出引用

{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}. 2010, 32(22): 177-181

参考文献

原文顺序 | 文献年度倒序 | 文中引用次数倒序

参考文献

{{article.reference}}

基金

版权

{{article.copyrightStatement_cn}}

{{article.copyrightLicense_cn}}

PDF(1356 KB)

Accesses

Citation

Detail

段落导航

相关文章

/

〈

〉