氮化硅薄膜热处理前后表面组成和折射率

赵青南，董玉红，刘莹，赵庆忠，赵修建

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武汉理工大学学报
武汉理工大学学报 ›› 2010, Vol. 32 ›› Issue (22) : 156-159.
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氮化硅薄膜热处理前后表面组成和折射率

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
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{{article.keyPoints_cn}}

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{{article.keyPoints_en}}

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{{article.zhaiyao_cn}}

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{{article.zhaiyao_en}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}. 2010, 32(22): 156-159

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{{article.reference}}

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{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
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